建造狂魔 第409节（2 / 7）

  以及提高光刻图形分辨率的移相掩膜、离轴照明、临近效应校正等技术。

  还有待研发课程，电子束光刻、聚焦离子束光刻、euv光刻等技术。

  除此之外，还包括相应的蚀刻机制造技术、复合半导体晶片技术……

  以上，都是世界前沿科技。

  如果造出来，那华夏就有可能，嗯，是有可能追赶上国际最前沿的芯片。

  可惜，没有制造设备！

  现阶段，九所免费租赁给天成的是一台第三代扫描投影式光刻机，最小工艺节点0.25um，也就是250纳米，用于制造冰熊需要的卫星元件。

  放在去年很先进，但今年已经过去一半，世界主流是180纳米，也就是老洪带回来的那一台。

  等到明年，估计能降到一百纳米，三年后七八十纳米，五年后四五十纳米，十年后十几纳米，十五年后几纳米……

  仔细算算。

  一切都很顺利的情况下。

  天成做出制造光刻机的设备，开始制造光刻机。

  其它承制企业也很给力，搞出对应镜头、晶圆、蚀刻机……

  这个过程，大概需要两年时间！

  两年后，天成制造出了180纳米的光刻机，让华夏技术再前行一步，而这个时候，国外的光刻机技术已经缩小到100纳米。
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